阿斯麥是掩模光刻機，尤其是極紫外光刻(EUV)技術的領先制造商之壹。EUV光刻機是目前世界上最先進的光刻設備，用於制造7 nm以下工藝的芯片，如智能手機、5G通信、人工智能等領域。
荷蘭光刻機的特點包括:
1.高精度:阿斯麥光刻機具有極高的精度，可以在矽片上繪制出極其精細的電路圖形，有助於提高芯片的性能和集成度。
2.產能高:阿斯麥光刻機生產效率高，可以幫助半導體廠商提高產量，降低生產成本。
3.先進的技術:阿斯麥在EUV光刻技術方面處於領先地位，這使得荷蘭的mask aligner在世界上極具競爭力。
4.嚴格的出口限制:由於荷蘭光刻機的先進性和戰略重要性，其出口受到嚴格限制。阿斯麥需要出口許可證才能向其他國家和地區銷售產品。
雖然荷蘭的光刻機享譽全球，但中國在光刻機領域仍面臨技術瓶頸。目前，中國正在加大投資，努力發展先進的光刻技術，以實現半導體產業的自主控制。