1，技術積累
荷蘭的asml是從飛利浦分離出來的，飛利浦本身的技術實力就很強，所以asml在成立的時候也繼承了飛利浦的很多關鍵技術，這是其發展的重要基礎。
2.西方國家享受並支持科技。
荷蘭能擁有高端光刻機的核心技術，離不開壹些西方國家的技術支持。比如目前asml的光源設備是美國企業提供的，阿斯麥的鏡頭是德國蔡司提供的。這些企業在各自領域都是世界頂尖水平。
另外，三星和海力士，包括南韓，也會和asml分享壹些技術，所以在很多國家的技術支持下，荷蘭的阿斯麥才能這樣發展壯大。
3.芯片企業的金融支持和市場支持。
Asml之所以能從三足鼎立中突圍，做到獨家壟斷，其中壹個重要原因就是芯片公司的資金支持和市場支持。比如目前我們所熟悉的壹些芯片巨頭，如英特爾、聯發科、臺積電、三星、海力士等，都是asml的股東，這些芯片巨頭源源不斷地為asml提供資金支持。
除此之外，由於是asml的股東，這些芯片巨頭在向光刻機采購時會優先考慮Asml的設備，這也是阿斯麥能夠發展壯大的重要原因之壹。
光刻機的性能指標。
光刻機的主要性能指標有:支持襯底的尺寸範圍、分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
分辨率是對光刻所能達到的最細線精度的描述。光刻的分辨率受到光源衍射的限制，因此受到光源、光刻系統、光刻膠和工藝的限制。
對準精度是多層曝光期間層間圖案的定位精度。曝光方式分為接觸接近、投影和直寫。曝光光源的波長分為紫外、深紫外和極紫外區，光源包括汞燈和準分子激光器。