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光刻機最小工藝0.35nm牛逼嗎?

更強大。

1,高集成度:0.35 nm的最小工藝可以做極小的芯片線寬,從而實現更高的集成度,使芯片能夠容納更多的晶體管和電路,提高芯片的性能和功能。

2.低功耗:0.35 nm的最小工藝可以做更小的晶體管,從而降低芯片的功耗,使芯片更節能。