掩模對準器是非常復雜的機器。目前在光刻機方面最有實力的廠商是荷蘭的阿斯麥,他們已經可以生產5nm線的光刻機。
掩模對準器的分類
光刻機按照操作的簡單程度壹般分為三種:手動、半自動和全自動。
手動:指對準的調整方式,通過手動調整旋鈕改變其X軸、Y軸和thita角度來完成對準,對準精度不高。
半自動:是指可以通過電軸根據CCD進行定位和調準。
自動:指從基板上傳和下載。曝光持續時間和周期由程序控制。自動光刻機主要滿足工廠對加工能力的需求。