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光刻機哪家厲害

中國、日本、荷蘭。

在能夠制造機器的這幾家公司中,尤其以荷蘭(ASML)技術最為先進。價格也最為高昂。光刻機的技術門檻極高,堪稱人類智慧集大成的產物。

目前在全球45納米以下高端光刻機市場當中,荷蘭ASML市場占有率達到80%以上,而且目前ASML是全球唯壹能夠達到7納米精度光刻機的提供商,所以ASML才是全球芯片業真正的超級霸主壹點都不過分。

主要性能指標

光刻機的主要性能指標有:支持基片的尺寸範圍,分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。

分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的壹種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。

對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。

曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域,光源有汞燈,準分子激光器等。