在這些能制造機器的公司中，荷蘭(阿斯麥)的技術是最先進的。價格也是最高的。光刻機的技術門檻極高，是人類智慧的產物。
目前全球45nm以下的高端光刻機市場中，荷蘭阿斯麥占有80%以上的市場份額，而目前阿斯麥是全球唯壹能達到7nm精度的光刻機供應商，因此阿斯麥成為全球芯片行業真正的超級霸主並不過分。
主要性能指標
光刻機的主要性能指標有:支持襯底的尺寸範圍、分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
分辨率是對光刻所能達到的最細線精度的描述。光刻的分辨率受到光源衍射的限制，因此受到光源、光刻系統、光刻膠和工藝的限制。
對準精度是多層曝光期間層間圖案的定位精度。
曝光方式分為接觸接近、投影和直寫。
曝光光源的波長分為紫外、深紫外和極紫外區，光源包括汞燈和準分子激光器。